聚焦离子束FIB测试的计量技术规范盘点

聚焦离子束系统采用聚焦的离子束对样品表面进行轰击，并由计算机控制离子束的扫描或加工轨迹、步距、驻留时间和循环次数，以实现对材料的成像、刻蚀、诱导沉积和注入的分析系统。其应用已经从界面检测扩展到纳米图像制备、透射样品制备、三维成像和分析、电路编辑和修复等，在材料科学、生物、半导体集成电路、数据存储磁盘等领域有广泛的应用。

但由于聚焦离子束系统在长期使用过程中离子束流强度、能量等的变化，导致其测量出现较大误差，对于使用过程中量值准确性的保证、项目验收等都存在极大的困难。所以迫切需要建立聚焦离子束系统的量传体系，为纳米技术领域的精准测量提供技术保障。

FIB计量规范的主要技术关键：