blender Eevee渲染器

简介.

1 EV渲染器是实时渲染，类似于游戏引擎,效果差于Cycles
2 EV渲染器使用的设备是显卡

采样.

1 渲染和视图分别指渲染模式和视图模式的采样值，值越大，效果越好(锯齿变小，阴影柔和)，越耗时

环境光遮蔽.

必须开启，效果好
1 距离：物体接缝处阴影向外延伸的距离，也就是阴影的宽度
2 系数：阴影的浓度
3 追踪精度：默认即可
4 弯曲法向：效果就是让阴影的颜色变深
5 近似反弹：物体越亮，遮蔽阴影颜色越浅

辉光.

即bloom，高光溢出，过亮(包括反光物体)或自发光的物体上常表现出高光溢出的效果
1 阈值：亮度地狱阈值将不会有辉光效果
2 屈伸度：不建议调整
3 半径：光晕的半径
4 颜色：与高亮物体的颜色混合
5 强度：辉光的强度
6 钳制： =0关闭钳制，不为0时表示允许的辉光的最大强度，用于钳制强度属性

景深.

这里的景深只用来调整景深的效果，景深的开关在摄像机的物体数据属性（绿色录相机）里。
1 最大尺寸：虚像的最大尺寸
2 sprite阈值：值越大，越亮的地方品质越差，渲染速度加快
3 邻域抑制：值越小，越亮的地方品质越差，渲染速度加快
4 降噪程度：值变大，消除噪点时，亮度会降低
5 高品质轻微散焦：建议打开
6 抖动相机：建议打开
7 过度模糊：需要先打开抖动相机，加大模糊效果

次表面散射.

次表面的强度可以在材质的原理化BSDF的次表面里调整
1 采样：值越大，效果越好
2 抖动阈值：值比较低的话，采样结果会呈现块状

屏幕空间反射.

降低材质的糙度即可有反射效果，提高金速度效果更好，但是默认只会反射天空盒，不会反射周围的物体，屏幕空间反射可以解决这个问题

屏幕空间反射的问题在于，我们看不到的面（包括不在摄像机里的和被挡住的），都不会产生反射效果
我们可以新建 光照探头里的反射平面和反射立方体解决这个问题。反射平面和反射立方体不需要开启屏幕空间反射也能用

反射平面：用于地面，镜子等平面反射，创建后，在贴近平面，注意要仔细调整位置，穿过平面会使平面反射底下的物体
反射立方体：使用方法，先使用shift+S将游标对准有反射效果的物体，新建一个光照探头/立方体反射，然后打开立方体反射的物体数据属性（绿色），找到视图显示，打开范围限制，使用上方光照探头选项卡里的钳制起始位置来控制需要烘焙的范围，注意不能插到有反射效果的物体内部。反射立方体的球或者立方体盒子代表这个范围内的物体将会有反射效果。然后找到渲染属性的间接光照明，点击仅烘焙立方盒反射，即可。这和Unity的反射探针是一样的，完成烘焙后，即使删除其他物体，也会保持反射效果。 反射立方体必须用自己的天空盒才能正确烘焙，使用bleder内置的天空盒烘焙不出来

1 折射：对于透射的物体，如玻璃瓶，我们需要折射效果，这里勾选折射后，还需要在物体的材质属性里勾选屏幕空间折射

2 半精度追踪：反射和折射追踪精度降低一半，加快渲染速度。实测影响不大
3 追踪精度：影响反射和折射的图案的面和边缘的锐利程度，值越大，越锐利，值比较小时，会出现面虚化的情况
4 最大糙度：治只有小于等于这个值的材质糙度，才会产生完整反射效果，如果物体纹理的糙度超过这个值，反射效果会逐渐消失
5 像素厚度：建议默认。过低，反射图案的一些面会被虚化剔除，太高颜色太厚，产生拉伸效果
6 边衰减： 值越小，效果越好
7 钳制：消除过亮的部分的噪点

间接光照明.

间接光照明用于烘焙间接光和反射球，需要注意，只能烘焙间接光，直接光不会被烘焙，辐照（间接光）和反射球都可以提供光照效果
默认情况下，世界环境材质（材质面板，左上角从物体改为世界环境）也将提供环境光，强度调为1，将变成黑色
天空盒也会提供照明，即使这个天空盒没有被连到世界环境材质上，关闭天空盒可以禁用天空盒照明

辐射体积类似于Unity的光照探针，但是只记录间接光的数据

进行间接光烘焙，首先需要一个直接光，然后创建一个 光照探头/辐射体积，场景不规则可以创建多个。调整辐射体积为合适大小，只有中间的立方体才是有效区域，然后在渲染属性里的间接光照明点击烘焙间接光照明即可

需要注意的是，如果对场景进行了修改，需要先清理旧光照缓存，再重新烘焙

1显示：可以显示辐射体积和立方盒反射的反射球，可以调整显示的大小

阴影.

1 矩形尺寸：值越高，阴影品质越好，但渲染压力会大增，仅作用于点光和面光
2 联级阴影：太阳光的品质
3 高位深： 不勾选有些阴影边缘会出现锯齿
4 柔和阴影：关闭后为硬阴影
5 灯光阈值：不建议调整，影响灯光的照射范围，阈值越大，灯光的影响范围越小

除了渲染设置里的阴影，灯光本身也可以设置自己的阴影属性
1 裁剪起点：阴影从哪个地方开始投射，距离是从光源位置，向光线方向开始算的，在这个起点以内的面不会投射阴影

2 阴影偏移：阴影开始处距离物体的偏移量，调大会导致阴影离开物体一段距离才开始出现，但和上方的裁剪不同，这里的偏移后的阴影还是完整的
3接触阴影：无论我们怎么调节，仅靠 1 2里的参数，两个物体的连接处的阴影都有可以出现不连续的情况，使用接触阴影可以在连接处创建一小段阴影，来补全缺失的阴影部分

体积.

影响体积的显示，需要新导入或制作一个体积
1 起始：沿视角从前往后开始渲染体积的距离，在这这个距离内的会被裁剪
2 结束点：同上，显示体积的最远距离
3 平铺尺寸：值越小，体积质量越高
4 采样：采样值越高，体积质量越高，原理是从体积不同深度切片然后混合
5 分布：体积越靠近相机，采样数量越多，这个值越高，则这种不平衡采样的趋势越强
6 体积光照明：体积是否收到光照影响。灯光钳制 =0 不钳制 不为零代表体积可以接受最大光照强度
7 体积阴影：体积是否会投射阴影。

未讲到的选项卡可以在cycles渲染器中找到.

Eevee渲染器的局限性.

详细可查看官方手册 渲染/eevee/局限 模块
右下角有自带的中文